EVG610-單面、雙面光刻系統(tǒng)是一款緊湊型多功能研發(fā)系統(tǒng)，可處理零碎片和大200 mm的晶圓。

　　一、簡(jiǎn)介

　　EVG光刻機(jī)EVG610支持各種標(biāo)準(zhǔn)光刻工藝，如真空，硬，軟接觸和接近式曝光模式，可選擇背部對(duì)準(zhǔn)方式。此外，該系統(tǒng)還提供其他功能，包括鍵合對(duì)準(zhǔn)和納米壓印光刻(NIL)。EVG610提供快速處理和重新加工，以滿足不斷變化的用戶(hù)需求，轉(zhuǎn)換時(shí)間不到幾分鐘。其先進(jìn)的多用戶(hù)概念適合初學(xué)者到專(zhuān)家級(jí)各個(gè)階層用戶(hù)，非常適合大學(xué)和研發(fā)應(yīng)用。

　　EVG610-單面、雙面光刻系統(tǒng)

　　二、EVG光刻機(jī)應(yīng)用

　　MEMS，RF器件，功率器件，化合物半導(dǎo)體等方面的圖形光刻應(yīng)用。

　　三、EVG光刻機(jī)特征

　　晶圓/基片尺寸從零碎片到200毫米/ 8英寸

　　頂部和底部對(duì)準(zhǔn)功能

　　高精度對(duì)準(zhǔn)

　　自動(dòng)楔形補(bǔ)償序列

　　電動(dòng)的和程序控制的曝光間隙

　　支持新的UV-LED技術(shù)

　　小化系統(tǒng)占地面積和設(shè)施要求

　　分步流程指引

　　遠(yuǎn)程技術(shù)支持

　　多用戶(hù)概念(無(wú)限數(shù)量的用戶(hù)帳戶(hù)和程序，可分配的訪問(wèn)權(quán)限，不同語(yǔ)言)

　　敏捷的處理和轉(zhuǎn)換重新加工

　　臺(tái)式或獨(dú)立式帶防振花崗巖臺(tái)面

　　附加功能：

　　鍵合對(duì)準(zhǔn)

　　紅外對(duì)準(zhǔn)

　　納米壓印光刻(NIL)

　　四、技術(shù)參數(shù)

　　1.掩模版-基板-晶圓尺寸

　　掩模版尺寸：5寸/7寸/9寸

　　基片/晶圓尺寸：100mm/150mm/200mm

　　晶圓厚度：高達(dá)10mm

　　2.對(duì)準(zhǔn)模式

　　頂部對(duì)準(zhǔn)精度：≤ ± 0,5 µm

　　底部對(duì)準(zhǔn)精度：≤ ± 2,0 µm

　　紅外對(duì)準(zhǔn)模式：≤ ± 2,0 µm/取決于基片的材料

　　3.頂部顯微鏡

　　移動(dòng)范圍1：100mm(X軸：32-100mm；Y軸：-50/+30mm；)

　　移動(dòng)范圍2：150mm(X軸：32-150mm；Y軸：-75/+30mm；)

　　移動(dòng)范圍1：200mm(X軸：32-200mm；Y軸：-100/+30mm；)

　　可選：平坦的物鏡可以增加光程；帶有環(huán)形燈的暗場(chǎng)物鏡，可以增加對(duì)比度

　　4.底部顯微鏡

　　移動(dòng)范圍1：100mm(X軸：30-100mm；Y軸：±12mm；)

　　移動(dòng)范圍2：150mm(X軸：30-100mm；Y軸：±12mm；)

　　移動(dòng)范圍1：200mm(X軸：30-100mm；Y軸：±12mm；)

　　可選：平坦的物鏡可以增加光程；帶有環(huán)形燈的暗場(chǎng)物鏡，可以增加對(duì)比度

　　5.曝光器件

　　(1)波長(zhǎng)范圍：

　　NUV：350 - 450 nm

　　DUV：低至200 nm (可選)

　　(2)光源：

　　汞燈350W , 500W UV LED燈

　　(3)均勻性：

　　150mm：≤ 3%

　　200mm：≤ 4%

　　(4)濾光片：

　　汞燈：機(jī)械式

　　UV LED：軟件可調(diào)

　　6.曝光模式

　　接觸：硬、軟接觸，真空

　　曝光間隙：1 - 1000 µm

　　線寬精度：1µm

　　模式：CP(Hg/LED)、CD(Hg/LED)、 CT(Hg/LED) 、CI(LED)

　　可選：內(nèi)部，浸入，扇形

　　7.可選功能

　　鍵合對(duì)準(zhǔn)精度：≤ ± 2,0 µm

　　納米壓抑光刻(NIL)精度：≤ ± 2,0 µm

　　納米壓抑光刻(NIL)軟印章分辨率：≤ 50 nm圖形分辨率

　　8.設(shè)施

　　真空：< 150 mbar

　　壓縮氣體：6 bar

　　氮?dú)猓嚎蛇x2或者6 bar

　　排氣要求：汞燈需要；LED不需要

　　9.系統(tǒng)方式

　　系統(tǒng)：windows

　　文件分享和軟件備份

　　無(wú)限程序儲(chǔ)存，參數(shù)儲(chǔ)存在程序內(nèi)

　　支持多語(yǔ)言，含中文

　　實(shí)時(shí)遠(yuǎn)程支持，診斷和排除故障

　　10.楔形補(bǔ)償

　　全自動(dòng)- 軟件控制

　　11.規(guī)格

　　占地面積：0.55m2

　　高度：1.01m

　　重量：約250kg

　　納米壓印分辨率：≤ 40 nm(取決于模板和工藝)

　　支持工藝：Soft UV-NIL